天津PET高反射镀膜材料 上海胜威海工贸供应

真空镀铝膜反应磁控溅射沉积过程中基板升温较小，而且制膜过程中通常也不要求对基板进行高温加热，因此对基板材料的限制较少。反应磁控溅射适于制备大面积均匀薄膜，并能实现单机年产上百万平方米镀膜的工业化生产。磁控溅射镀膜原理：磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置100～1000Gauss强力磁铁,真空室充入1～10Pa压力的惰性气体(Ar)，天津PET高反射镀膜材料,作为气体放电的载体，天津PET高反射镀膜材料。在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子，天津PET高反射镀膜材料, 电子在加速飞向基片的过程中,受到垂直于电场的磁场影响。真空镀铝膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射。天津PET高反射镀膜材料

真空镀铝膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态，之后塑料薄膜经过真空蒸发室时，气态的铝分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金属色彩的薄膜。真空镀铝膜是采用特殊工艺在塑料薄膜表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一种复合软包装材料，其中极常用的加工方法当数真空镀铝法，就是在高真空状态下通过高温将金属铝融化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽。由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金属的特性。深圳PET镀铝膜加工真空镀铝膜的工艺流程是比较规范的。

真空镀铝膜流淌和涂覆不均匀往往会导致镀铝产品报废。涂覆件一定要有足够的干燥温度和时间，若干燥不好，耐高温试验会有镀铝面发雾或起皱纹等现象。真空镀铝膜时，工件装架不当会引起镀铝区域偏移而报废；若铝丝纯度不够或蒸发控制不当，蒸发中有杂质逸出会形成炸铝痕迹而残留于塑件表面；蒸发温度过高或过低、蒸发器表面温度不稳定都会在真空镀铝膜表面留下小颗粒白点(对着灯光观察)；真空度不好会导致镀膜附着力不合格；镀膜流量控制不好也会导致镀膜发彩等。

目前国内较多真空镀铝膜使用丙烯酸酯底漆，并根据基材类型调整底漆配方，主要为热固化底漆和紫外光(UV)固化底漆，适用性很好。灯具塑料件大多采用预涂底漆后镀铝，再镀保护膜的方式，保护膜的实质就是二氧化硅。SiO2薄膜具有很好的保护性，可使铝膜在10%的碱性溶液中完好无损。为了减少预涂底漆这道工序，降低生产成本，有人研发了PBT免底涂材料并取得新的进展。无论采用哪种方式，都应对镀铝件进行附着力测试，合格方可使用。基本工艺流程为：预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。真空镀铝膜工艺一般采用蒸镀和磁控溅射两种方法。

真空镀铝膜附着检测，要检测真空镀铝膜的铝层附着力，首先确认镀铝面。通常实用的方法用手指轻轻的在薄膜的正反面划一下.膜面一般不会有明显的划痕。铝层面会因为外力的摩擦产生很明显的划痕。镀铝层附着牢度通常的检测方法是胶带检测法，即将长15－20cm ，宽0.5-1 inch的3M 胶带贴合在镀铝薄膜的镀铝层上并将其压平，然后以均匀的速度将胶带剥离，观察并估计镀铝层被剥离的面积，面积小于10%为一级、小于30%为二级、大于30%为三级。胶带检测法只是一种定性的检测方法，只适合于一般的定性比较。真空镀铝膜在复合包装中的应用十分普遍。深圳PET镀铝膜加工

真空镀铝膜应用范围还是比较的广阔的。天津PET高反射镀膜材料

氧化物真空镀铝膜技术的应用近年来，迅速发展微波加热技术给微波食品包装及需经微波杀菌消毒的一类商品的包装提出了新的要求，即包装材料不仅要具有优良的阻隔性能，而且还要耐高温、微波透过性好等特性，传统的包装材料很难各个方面具备这些特点。非金属镀膜可采用蒸镀原料可采用SiOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y 2O 3、TiO2、Gd 2O 3等，其中极常用的是SiOX、AlOx。氧化物镀膜的蒸发源有电阻式和电子束两种，电阻式蒸发源以电阻通过发热的原理来加热蒸镀原料。天津PET高反射镀膜材料

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