天津BOPP镀铝膜反射镜 上海胜威海工贸供应

等离子预处理工艺在真空镀铝膜中的应用，等离子体是电离了的气体。它由电子、离子和中性粒子3种成分组成，其中电子和离子的电荷总数基本相等，故整体是电中性的。在基材薄膜镀铝前，通过等离子处理装置将电离的等离子体中的电子或离子打到基材薄膜表面，天津BOPP镀铝膜反射镜，一方面，可以打开材料的长分子链，出现高能基团；另一方面，经打击使薄膜表面出现细小的凹陷，天津BOPP镀铝膜反射镜，同时还可使表面杂质离解，天津BOPP镀铝膜反射镜、重解。电离时放出的臭氧有强氧化性，附着的杂质被氧化而除去，使镀铝基材薄膜的表面自由能提高，达到提高镀铝层附着牢度的目的。真空镀铝膜将卷筒薄膜置放于真空室内。天津BOPP镀铝膜反射镜

镀膜的溅射室的数量亦或溅射靶的数量, 包括选用的靶材, 取决于生产线开发膜系的能力和产量。磁控溅射靶的功率密度一般13W/ cm 2, 比直流溅射要高得多。但实际的电源往往很难保证靶的功率。没有大的功率就没有高沉积速率,而高沉积速率是现代镀膜所推崇的。电源的并联是增强功率的一个途径。平面磁控靶的结构分为直冷式和间冷式两类。直冷式适合于气密性好的靶材。由于冷却效果好, 功率更大一些。间冷式的适合于气密性较差的靶材, 功率要小一些。靶内磁体目前更多采用的是钕铁硼永磁体,。福建镭射介质膜系列镀膜是通过真空镀铝工艺将高纯度的铝丝在高温（1100~1200℃）下蒸发成气态。

镀膜磁控溅射，磁控溅射又称为高速低温溅射。在磁场约束及增强下的等离子体中的工作气体离子 (如 Ar+)，在靶阴极电场的加速下，轰击阴极材料，使材料表面的原子或分子飞离靶面，穿越等离子体区以后在基片表面淀积、迁移极终形成薄膜。与二极溅射相比较，磁控溅射的沉积速率高，基片升温低，膜层质量好，可重复性好，便于产业化生产。它的发展引起了薄膜制备工艺的巨大变革。磁控溅射源在结构上必须具备两个基本条件：(1)建立与电场垂直的磁场；(2)磁场方向与阴极表面平行，并组成环形磁场。

镀膜的泵用于进片室可以免油蒸汽对基片的污染, 并可防止活性气体周期性的混入镀膜室内。在溅射镀膜中尽量抑zhi油蒸汽的污染的必要性应是无可争议的。为了保证每个溅射室能在**的气氛下工作, 相邻的溅射室之间应采取气氛隔离措施。这可通过狭缝装置来达到隔离的目的。所谓狭缝是用两块横贯室体的钢板水平围成的长200～300mm , 高10～ 12mm 的空间, 这是一种流导模型, 在分子态下具有很小的传输几率。狭缝所处位置的室体横截面, 除了缝外完全隔断。这样两道狭缝相距40～ 50 cm 设置便可形成一种物理上的隔离。真空镀铝膜流淌和涂覆不均匀往往会导致镀铝产品报废。

真空镀铝膜的目测估计法。如用两层真空镀铝膜叠在一起对着日光灯或对着天空看，以看不见光线为准，镀层厚度应达400Å以上，但这种方法很容易受眼睛视觉的影响，当把真空镀铝膜贴在眼前观看时，眼睛的瞳孔会随光线变暗而调整，本来看不见的光线在瞳孔调整后又将能看见。真空镀铝膜镀层的均匀度沿被测样品横向等距离地取8~10个规格为100mm×100mm的试样，用电阻测量仪分别测出方块的电阻值，取其算数平均值，即为该试样的镀层电阻，还可以计算其电阻值上、下偏差。真空镀铝膜在许多方面已取代了铝箔复合材料。浙江膜反射镜

真空镀铝膜应用范围还是比较的广阔的。天津BOPP镀铝膜反射镜

真空镀铝膜可以进一步提高真空镀铝膜的氧气阻隔性能，同时可以保持表面张力大于50 dyne/cm 6到12个月。产品主要应用于对氧气阻隔性要求高的食品、药品的包装上，如坚果、薯片等。为提高真空镀铝膜的装饰性能，在基材薄膜镀铝前或镀铝后进行各种颜色的涂布，或模压后再进行镀铝，使得真空镀铝膜具有多彩的颜色或具有镭射效果。此类产品可分为三种：包装用膜、装饰用膜、标示用膜。主要应用于礼品、礼盒的装饰或防伪包装用途，如食品、药品、玩具等的外包装以及烟、酒等的防伪包装。天津BOPP镀铝膜反射镜

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